制藥設(shè)備使用牽涉品種、換批，且很頻繁，為避免物料的交叉污染與成分發(fā)生反應(yīng)，清除設(shè)備內(nèi)外部的粉塵、清洗粘附物等操縱與檢查是*的，且要求極為嚴(yán)格。GMP要求設(shè)備外形整潔就是為達到易*清潔而規(guī)定。
1、夸大對整體結(jié)構(gòu)與形體的簡化，這是對設(shè)備整體及必須暴露的局部（也包括某些直觀可見的零件）來講的。在GMP觀點下進行形體的簡化，可使設(shè)備常規(guī)設(shè)計中的凹凸、槽、臺變得平整簡潔，可zui大限度地減少躲塵、積污，易于清洗；
2、對與生產(chǎn)操縱無直接關(guān)系的機構(gòu)，應(yīng)盡可能設(shè)計內(nèi)置、內(nèi)躲式。如傳動等部分設(shè)計成內(nèi)置式；
3、與藥物接觸部分的構(gòu)件，均應(yīng)具有不附著物料的低粗糙度值的表面。拋光處理是有效的工藝手段。拋光的物件主要是不銹鋼板材、鑄件、焊件等，且拋光的外部輪廓應(yīng)力求簡潔、拋光到位；
4、包覆式結(jié)構(gòu)是制藥設(shè)備中zui多見的，也是簡便的手段。將復(fù)雜的機體、本體、管線、裝置用板材包覆起來密閉，以達到簡潔的目的；
5、潤滑是機械運動所必須的，在制藥設(shè)備中有相當(dāng)一部分屬臺面運動方式。動桿動軸集中、結(jié)構(gòu)復(fù)雜，又都與藥品生產(chǎn)有關(guān)，且設(shè)備還有清洗的特定要求。無論何種情況下潤滑劑、清洗劑都不得與藥物相接觸，包括掉進、滲透等的可能性。
解決措施大致有兩種：①采用對藥物的阻隔；②對潤滑部分的阻隔，以保證在潤滑、清洗中的油品、清洗水不與藥物原料、中間體、藥品成分相接觸。
